2017年10月12日-13日，首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在北京國際會議中心舉行，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所承辦，中芯國際(SMIC)、長江存儲(YMTC)、華虹集團(tuán)、Mentor、ASML、KLA Tencor、南大光電(Nata)、上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(SMEE)、Synopsys、Toppan、JSR、東方晶源、沈陽芯源贊助。會議共有200余人參會，分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機(jī)構(gòu)、高校等。我公司董事秦怡生、副總經(jīng)理楊建國參加了本次研討會。
大會主席、集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長、科技部原副部長曹健林，國家外專局原局長馬俊如，科技部重大專項辦副巡視員、02專項實施管理辦公室副主任邱鋼先后為大會致開幕詞，大會副主席、中科院微電子研究所所長葉甜春就當(dāng)前行業(yè)趨勢做了分析報告，大會秘書長、中科院微電子研究所計算光刻研發(fā)中心主任韋亞一研究員主持開幕式。按照大會安排，在這兩天的時間里，來自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題做了特邀報告，深入分析了光刻領(lǐng)域先進(jìn)節(jié)點的技術(shù)手段和解決方案，內(nèi)容豐富，包含7nm及以下節(jié)點的計算光刻技術(shù)、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻設(shè)備、材料等。會后，參會嘉賓進(jìn)行合影留念。
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